ALN膜层特性

• 提升亮度
• 缩短GaN成长时间
• 磊晶工艺范围变宽,提升良率

友威的优势

• 真空高温技术
• 欧美品质,国产价格
• 提供ALN镀膜代工服务
• 品质监控,量测Lab：d.n.k,α-STEP,XRD,AFM,光谱仪,应力量测

设备规格

• 工作尺寸: 420mm x 650mm
• 机台尺寸: L 3.5M x W 2.2M x H 2.3M
• 产能: 2” 300K/Mon
• 计算基础: 24hr/26Day

设备特色

• 全系统可搭配2”, 4”, 6”治具生产
• 超低温高速成膜
• Lowdamage Ag复合层
• Grain小反射率高
• Foot plant占地小
• 磁性流体传动导入
• 全机无油设计
• 快速换靶机构

设备规格

• 工作尺寸: 420mm x 650mm
• 机台尺寸: L 4.8M x W 2.3M x H 1.85M
• 产能: 2” 45K/Mon
• 产能: 4” 10K/Mon
• 计算基础: 24hr/26Day

设备特色

• 全系统可搭配2”, 4”, 6”治具生产
• 超低温高速成膜
• Lowdamage Ag复合层
• 超致密膜Ag复合层
• Grain小反射率高
• 磁性流体传动导入
• 全机无油设计
• 快速换靶机构

设备规格

• 工作尺寸: 350mm x 350mm
• 机台尺寸: L 4.2M x W 2.5M x H 2.4M
• 产能: Kioth-I100 2” 116K/Mon
• 产能: Kioth-I200 2” 230K/Mon
• 计算基础: 24hr/26Day

设备特色

• 全系统可搭配2”, 4”, 6”治具生产
• MMC Cathode 搭载自动翻转
• Sputter 膜可控制较小Grain
• ITO薄膜致密性高、穿透率高
• Sputter Multi ITO薄膜结构设计
• Cathode I : Super Low Damage、薄膜
• Cathode II : Low Damage、极薄膜、高速成膜
• 磁性流体传动导入
• 全机无油设计

设备规格

• 工作尺寸: 300mm x 300mm
• 机台尺寸: L 4.8M x W 1.8M
• 产能: UHS-20503C4 2” 78K/Mon
• 计算基础: 22hr/26Day

设备特色

• 全系统可搭配2”, 4”, 6”治具生产
• 连续式溅镀系统
• 上掀式腔体门方便保养
• 自动回流系统、可整合自动化
• Sputter薄膜均匀稳定
• Ag薄膜致密性高、反射率>91%
• Ag Reflect薄膜叠构设计
• 全机磁性流体传动导入

设备规格

• 工作尺寸: 250mm x 250mm x 10面
• 机台尺寸: L 3.5M x W 2.2M x H 2.6M
• 产能: UFE-11005P2 2” 63K/Mon
• 计算基础: 24hr/26Day

设备特色

• 全系统可搭配2”, 4”, 6”治具生产
• 针对多层薄膜、厚膜设计
• Low Damage磁控溅镀系统
• 极薄膜沉积、均匀稳定
• 低温成膜、制程温度监控
• 模组化设计方便保养
• 可整合自动化上下料系统
• 多层金属膜推力>50g

产品应用类别